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RF GaN市場應用、技術及襯底-2018版

2018-01-31 來源:麥姆斯咨詢 MEMS 作者:王懿 字號:

5G應用臨近,RF GaN(射頻氮化鎵)市場快速發展,未來五年將實現3倍增長

過去兩三年來,RF GaN市場快速發展,已經重塑整個RF功率產業。截止2017年末,RF GaN整體市場規模已經接近3.8億美元。RF GaN在各個市場的滲透率,尤其是電信和國防應用市場,在過去兩年里實現了突破,在這兩個應用領域的復合年增長率超過了20%。隨著5G網絡應用的到來,RF GaN市場預計將在2019~2022期間獲得另一輪爆發增長。

RF GaN整體市場規模到2023年預計將增長至目前的3.4倍,2017~2023年期間的復合年增長率可達22.9%。本報告介紹了GaN技術在不同應用領域的現狀和發展,包括無線基礎設施、國防和航天應用、衛星通訊、有線寬帶、CATV(有線電視)和光纖到戶中應用的同軸線纜、以及ISM(工業、科研和醫療)無線電波段應用等。本報告還提供了新興GaN廠商的完整分析,包括Sumitomo Electric、Wolfspeed、Qorvo、M-A/COM、UMS、NXP、Ampleon、RFHIC、Mitsubishi Electric、Northrop Grumman以及Anadigics。本報告還研究了在雷達、基站收發信臺、有線電視、極小孔徑終端(VSAT)衛星地面站和干擾器等應用中開發并應用的GaN器件。

電信和國防應用是推動RF GaN市場增長的主要驅動力

Yole預計電信和國防應用將成為RF GaN產業的重要支柱。就電信市場而言,得益于5G網絡應用的日益臨近,將從2018年開始為GaN器件帶來巨大的市場機遇。相比現有的硅LDMOS(橫向雙擴散金屬氧化物半導體技術)和GaAs(砷化鎵)解決方案,GaN器件能夠提供下一代高頻電信網絡所需要的功率和效能。

而且,GaN的寬帶性能也是實現多頻帶載波聚合等重要新技術的關鍵因素之一。GaN HEMT(高電子遷移率場效晶體管)已經成為未來宏基站功率放大器的候選技術。由于LDMOS無法再支持更高的頻率,GaAs也不再是高功率應用的最優方案,Yole預計未來大部分6GHz以下宏網絡單元應用都將采用GaN器件。

5G網絡采用的頻段更高,穿透力與覆蓋范圍將比4G更差,因此小基站(small cell)將在5G網絡建設中扮演很重要的角色。不過,由于小基站不需要如此高的功率,GaAs等現有技術仍有其優勢。與此同時,由于更高的頻率降低了每個基站的覆蓋率,因此需要應用更多的晶體管,預計市場出貨量增長速度將加快。

過去十年來,國防應用一直是推動GaN技術發展的主要驅動力。GaN器件發源于美國國防部,已經廣泛應用于新一代航天和地面雷達系統。GaN的高功率性能提高了雷達的探測距離和分辨率,設計人員對該新技術的應用也已經日趨成熟。然而,與軍事相關的技術總是非常敏感。隨著國防應用領域日益青睞GaN器件,非軍事應用領域或將受到影響,尤其是針對該技術的市場并購行為。如果涉及軍事應用,政府勢必橫加干預,例如FGC Investment Fund對Aixtron的并購,以及英飛凌(Infineon)對Wolfspeed的并購。本報告將帶您深入了解無線基礎設施和國防應用市場,以及有線網絡和衛星通訊等其它應用。

RF GaN市場的發展方向

經過數十年的發展,GaN技術在全球各大洲已經普及。市場領先的廠商主要包括Sumitomo Electric、Wolfspeed(Cree科銳旗下)、Qorvo,以及美國、歐洲和亞洲的許多其它廠商。化合物半導體市場和傳統的硅基半導體產業不同。

相比傳統硅工藝,GaN技術的外延工藝要重要的多,會影響其作用區域的品質,對器件的可靠性產生巨大影響。這也是為什么目前市場領先的廠商都具備很強的外延工藝能力,并且為了維護技術秘密,都傾向于將這些工藝放在自己內部生產。

盡管如此,Fabless設計廠商通過和代工合作伙伴的合作,發展速度也很快。憑借與代工廠緊密的合作關系以及銷售渠道,NXP和Ampleon等領先廠商或將改變市場競爭格局。同時,目前市場上還存在兩種技術的競爭:GaN-on-SiC(碳化硅上氮化鎵)和GaN-on-silicon(硅上氮化鎵)。它們采用了不同材料的襯底,但是具有相似的特性。理論上,GaN-on-SiC具有更好的性能,而且目前大多數廠商都采用了該技術方案。

不過,M/A-COM等廠商則在極力推動GaN-on-Silicon技術的廣泛應用。未來誰將主導還言之過早,目前來看,GaN-on-silicon仍是GaN-on-SiC解決方案的有力挑戰者。此前版本的報告分析了多種不同的技術發展趨勢,以及對整個RF GaN市場及相關廠商的潛在影響。本次更新的報告提供了新的市場及技術趨勢,以及相關市場規模的預測。

主題閱讀: 射頻氮化鎵
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