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微電子所1700V IGBT研制首次流片取得突破

2011-06-14 來源:微波射頻網(wǎng) 字號:

  近期,由中科院微電子所硅器件與集成技術(shù)研究室(一室)朱陽軍副研究員帶領(lǐng)的IGBT團(tuán)隊(duì)在1700V IGBT研制方面取得了突破性進(jìn)展。

  該團(tuán)隊(duì)此次研制的1700V trench NPT IGBT產(chǎn)品經(jīng)過首輪流片靜態(tài)參數(shù)基本達(dá)標(biāo),其中阻斷電壓達(dá)1800V以上,飽和壓降2.8V;動(dòng)態(tài)參數(shù)優(yōu)良,其中最關(guān)鍵的下降時(shí)間tf在130ns左右,優(yōu)于國外多個(gè)廠家同類產(chǎn)品的300ns;5月4日本批產(chǎn)品又通過了168小時(shí)HTRB(高溫反偏老煉試驗(yàn))可靠性摸底試驗(yàn)。綜合來看,該批產(chǎn)品在性能上已達(dá)到國際先進(jìn)水平,優(yōu)于國外多個(gè)廠家的同類產(chǎn)品。

  本次產(chǎn)品的開發(fā)是微電子所首次涉足1700V高壓IGBT研制,采用了完全自主設(shè)計(jì)的終端(2種)和元胞(9種)結(jié)構(gòu)。制造工藝基于國內(nèi)華虹NEC8吋線,由微電子所負(fù)責(zé)工藝設(shè)計(jì),工藝線進(jìn)行單項(xiàng)工藝模塊開發(fā)。標(biāo)志著IGBT工藝從設(shè)計(jì)研制到工藝開發(fā)的貫通又上了一個(gè)新的臺(tái)階。

  微電子所IGBT產(chǎn)品研制在所領(lǐng)導(dǎo)和室領(lǐng)導(dǎo)的關(guān)懷幫助下發(fā)展順利,研究團(tuán)隊(duì)不斷發(fā)展壯大,在近一年的時(shí)間內(nèi),取得了階段性的成績。項(xiàng)目組先后承擔(dān)了國家重大科技專項(xiàng),中科院院重要方向性項(xiàng)目,中科院“創(chuàng)新2020”首批支撐服務(wù)國家戰(zhàn)略性新興產(chǎn)業(yè)科技行動(dòng)計(jì)劃專項(xiàng),院地合作專項(xiàng)等一系列科研項(xiàng)目。產(chǎn)品開發(fā)方面已形成了1200V系列8款,即將形成1700V系列4款等芯片/器件/模塊產(chǎn)品;并已設(shè)計(jì)完成6500V IGBT器件和工藝,1200V & 1700V FRD器件和工藝等,正轉(zhuǎn)入流片階段。IGBT團(tuán)隊(duì)將以更加團(tuán)結(jié)飽滿的熱情、科學(xué)嚴(yán)謹(jǐn)?shù)淖谥纪度氲叫碌漠a(chǎn)品的研制開發(fā)中。

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